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深圳華盛光刻系統(tǒng)有限公司

技術
專利證書名稱
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華盛光刻系統(tǒng)公司成立于2023-4-6,一期項目總投資:2.1510億人民幣,作為深圳市社會投資主體項目,歸口行業(yè):半導體器件專用設備制造。建成一期:F01先進光刻制造基地,將立足光明科學城,實現(xiàn)100nm、130nm 及以上先進光刻超精代工量產。 華盛光刻秉承“貿-工-技”產業(yè)底層,打造數(shù)字化先進光刻制造基地,專業(yè)技術人才(含科研人才)規(guī)劃約100人。項目團隊將與亞太區(qū)各大科研平臺和商業(yè)客戶深耕產研合作,筑建生產、管理、研發(fā)一體化的技術壁壘 ,打破國外壟斷。核心產品將覆蓋半導體器件、先進封裝、光學、光子學、 力學和生物醫(yī)學工程、AI、腦機接口等領域。

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