2025年全球圖形光刻（2D、2.5D、3D）整體市場規(guī)模達到約1400億人民幣，復合年增長率超過10%。其中2D半導體光掩膜，2024年國內市場規(guī)模120億元，2025年國內市場規(guī)模將達到169億元。

        圖形光刻客戶遍布于半導體、生物醫(yī)療、光模塊、光子學等行業(yè)（近兩年科創(chuàng)板上市公司超90%來自這些行業(yè)），屬于[敏感詞]戰(zhàn)略支持及科創(chuàng)板上市熱門的“硬”“卡”“替”領域。

        深圳華盛光刻系統(tǒng)有限公司（以下簡稱“華盛光刻”）成立于2023年4月6日，注冊資本3151萬RMB，主營業(yè)務圖形光刻超精密制造（Foundry），制程60nm及以上，核心產(chǎn)品：半導體光掩膜、2.5D&3D微納構件。