光掩膜(又稱“光罩”“掩膜版”)是半導體制造過程中的關鍵圖形轉(zhuǎn)移工具；

華盛光刻擁有130nm 制程的4寸-12寸晶圓所需光掩膜版量產(chǎn)能力；

華盛光刻：開創(chuàng)100%純國產(chǎn)光掩膜Foundry代工新紀元！